CVD管式爐可以提供高溫、高壓、高真空等嚴(yán)苛條件,使得我們可以在這種環(huán)境下進(jìn)行各種材料制備、燒結(jié)、還原等實(shí)驗(yàn)。在高校、科研院所、工礦企業(yè)等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景和市場(chǎng)前景。
PECVD管式爐是一種先進(jìn)的實(shí)驗(yàn)設(shè)備,它采用滑動(dòng)爐體設(shè)計(jì),可以實(shí)現(xiàn)快速的升降溫,同時(shí)配置了不同的真空系統(tǒng)來(lái)達(dá)到理想的真空度。PECVD管式爐是一種高度精密、功能強(qiáng)大的實(shí)驗(yàn)設(shè)備,適用于各種薄膜材料的生長(zhǎng)和制備。